ALD工艺气体传输控制柜
原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）是一种细密的薄膜沉积手艺，能够在纳米尺度下实现对质料外貌举行单原子层级此外准确控制和生长。ALD工艺气体传输控制柜是专门用于ALD工艺历程中，确保气体稳固、准确和清静传输的装备。gai控制柜通过高精度控制，保证气体流量、压力和温度的准确调治，以知足ALD工艺对气体供应的严酷要求。
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产物特点
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产物参数
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质量治理
产物特点
高精度流量控制
接纳高精度气体质量流量控制器，能够准确控制反映气体进入反映腔，从而确保工艺稳固性
采购快速气动阀，实现气体快速切换，从而实现工艺稳固
清静稳固性
气柜配有门互锁开关、压力清静开关、单向阀等清静部件保证气柜清静
装备接纳防爆、防腐等设计，提高了装备的清静性能
高气密性
产物接纳IGS和VCR接口形式
实现半导体装备的高气密性
高清洁度
接纳高精渡过滤器
去除3nm以上的颗粒杂质
清静认证
通过SEMI S6测试清静认证
产物参数
| 外漏测试漏率 | ≤1.0X10-11/mbar·L/s |
| 内漏测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s |
| 保压测试50psi | 氮气保压测试，保压12h，压降 ≤1% |
| 氦爆测试漏率 | ≤1.0X10-9/mbar·L/s;（可。 |
| 颗粒测试 | (5 particle @ >0.1um) |
| 水氧测试 | 水含量≤10PPB，氧含量≤10PPB；（可。 |
质量治理
腾博手机质量治理承袭"好的质量是设计、制造出来的"为原则,关注客户端到端的质量服务,从研发、设计、历程全生命周期质量治理关注各环节中入口质量、历程质量、出口质量,襶uanＶふ逯柿靠煽,最终构建成以以预防为主的质量文化,助力客户产物更具竞争力。
